Описание

OBLF VeOS – универсальный, гибкий и быстрый анализатор всех распространённых металлов и сплавов. 
Оптический эмиссионный спектрометр OBLF на CCD- детекторах.

Применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов. 
Используется для научных исследований (например, для изучения межэлементных влияний в сплавах и т. п.), разработки новых сплавов.

 

Преимущества: 

• Одновременное определение всех элементов в пробе
• Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
• Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
• Анализ N, C, S, P (азот, углерод, сера, фосфор) в металлах
• Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа

 

Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий, включая производителей чистых металлов.
Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе. Бескомпромиссная конструкция, сочетающая высокие аналитические показатели с невероятной гибкостью CCD/CMOS детекторов.
Обеспечивает точный анализ коротковолновых элементов, напр. сера, фосфор, азот, низкие концентрации углерода в стали, фосфор в алюминии и т.д. 

 

Достоинства: 

• Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
• Выбор любой спектральной линии пользователем в диапазоне от 130 до 780 нм.
• Одновременное определение всех элементов в пробе
• Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
• Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
• Анализ N, C, S, P в металлах
• Удовлетворяет всем аналитическим задачам
• Легко добавляемые аналитические линии
• Новейшая, специально разработанная технология детекторов
• Точное определение низких пределов содержания N и C (технология ULC)
• Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
• Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
• Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях

 

Детекторы 

Конструкция светочувствительных детекторов CMOS специально приспособлена для требований эмиссионной спектрометрии. Они отличаются большой светочувствительной поверхностью, которая в 100 раз больше, чем в сопоставимых системах. 

• В VeOS применяются высококачественные эксклюзивные твердотельные детекторы, разработанные специально для эмиссионной спектроскопии
• Усовершенствована чувствительность сенсоров: 
• большая площадь пиксела: узкие и высокие пикселы (для повышения разрешения и чувствительности) 
• отсутствие органических покрытий для повышения чувствительности в УФ- диапазоне (как результат- долговременная стабильность)
• Истинная технология компенсации шума CDS (двойное сэмплирование)
• Улучшена чувствительность в УФ-области без органического покрытия
• Избирательная чувствительность для каждого сенсора
• 16 битное АЦП преобразование для измерения в большом динамическом диапазоне
• Быстрое считывание за 2 мс
• Отсутствие блюмингового эффекта (эффекта «распускания») благодаря специальной конструкции транзистора
• Охлаждение детекторов для уменьшения темнового шума и улучшения стабильности сигнала
• Технология объединения сигналов с пикселов для повышения аналогового сигнала (только для CMOS)

 

Необслуживаемый цифровой генератор GDS III 

• Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
• Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
• Снижает межэлементные влияния и влияние фона
• Параметры возбуждения оптимизированы
• Программируемая частота разряда 1 Гц- 1 кГц

 

Искровой штатив 

• Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций 
• Оптимальный участок плазмы искры
• Запатентованная импульсная продувка аргоном
• Термостабилизация штатива
• Простой доступ для обслуживания
• Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную вакуумную камеру. 

 

Программное обеспечение 

Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке. 

Возможности 

• Обработка данных спектра:

1. различные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay) 
2. «вычитание» фона для каждой линии 
3. постоянная проверка профиля линии 
4. использование нескольких линий сравнения 

• «Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала) 
• Технологии компенсации фона
• Расчет интенсивностей канала (n-Pixel-Integral, Gauss area, Peakheight)
• Виртуальная выходная щель шириной 3 - 100 pm
• Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
• Контроль профиля
• Контроль темнового тока
• Автоматическое профилирование с помощью ПО

 

Технические характеристики

Характеристика	Значение
Оптическая схема Пашена-Рунге	500 мм
Плоская решётка	160 мм
Разрешение дифракционной решётки	2600 линий/мм
Обратная дисперсия для 1-го порядка	0,78 и ~4 нм/мм
Диапазон длин волн	130-680/780 нм
Частота искрового разряда	1 - 1000 Гц
Чистота аргона	99,998 %
Расход аргона на один прожиг в Fe-матрице	макс. 2,4 л
Расход аргона во время ожидания	капиллярный
Габариты прибора, Д х Ш х В	1150 х 740 х 1340 мм
Вес нетто	300 кг