Системы серии EVG 620NT и 6200NT - современные системы совмещения и экспонирования. Предназначены для работы с пластинами и подложками размерами от 5 мм до 150 мм и от 75 мм до 200 мм
Системы предлагают передовые конструкторские решения:
Модульная конструкция позволяет легко изменять функционал системы и расширять возможности от лабораторной системы, до системы для серийного производства, от ручной до полностью автоматической системы
Совмещение по двум сторонам пластины, возможно совмещение с применением инфракрасного излучения
Оптика высокого разрешения
Механизмы компенсации разнотолщинности пластин (клиновидности)
Защита от вибраций
Линейные приводы
Гранитное основание
Особенности системы:
Точность совмещения: по верхней стороне ±0,5 при За, по нижней стороне ±1,0 при За
Разрешение системы <0,8 мкм при вакуумном контакте
Совмещение пластин для последующей сварки (опция)
Автоматическая система компенсации клиновидности пластины
Платформа для решений в области УФ-наноимпринтной фотолитографии
Экспонирование при мягком, жестком и вакуумном контакте, а так же экспонирование с микрозазором
Длины волн экспонирования: i-, д-, h-линия, DUV
Ручной и автоматический режимы эксплуатации
Встроенная система документирования техпроцесса и ошибок, различные уровни доступа.